Thème :
Le
profilage plasmatique TOFMS (PP-TOFMS) est une nouvelle technique de caractérisation des matériaux ayant l’avantage de révéler des informations ultra-rapides et directes sur la composition élémentaire et ce, en fonction de la profondeur. L’objectif de ce Webinar est de vous montrer, à travers de nombreux exemples, le potentiel de cette nouvelle technique pour le développement de vos films minces et de vos dispositifs.
Objectifs :
- Se familiariser avec les caractéristiques essentielles de cette technique (rapidité, sensibilité, résolution)
- Découvrir comment cette technique « PP-TOFMS » peut être complémentaire à vos techniques actuelles de profilage chimique (XPS, SIMS, SEM-EDX, RBS)
- Démontrer l’utilité de la technique PP-TOFMS en tant que processus rapide en boucle fermée
Pour qui ?
- Chercheurs universitaires, ingénieurs en R&D travaillant dans le domaine des semi-conducteurs, de la microélectronique, de la photonique, du photovoltaïque
- Responsables et ingénieurs en métrologie, scientifiques (technique des couches minces), utilisateurs XPS, SIMS, AES
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Présentateurs :
Ingénieur en métrologie, Leti
Ingénieur en métrologie, Leti
Product Manager HORIBA Scientific