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Un PDK pour la plateforme 310 nm du CEA-Leti intégré dans un outil Mentor Graphics


​L'outil de conception Tanner de MENTOR Graphics intègre désormais un Process design kit (PDK)  pour la plateforme photonique 310 nm du CEA-Leti. Un gain de temps et d'efficacité pour les industriels qui développent des circuits dans cette technologie.

Publié le 7 avril 2020
  • ​La plateforme photonique 310 nm a déjà pour elle d'être opérationnelle sur wafers 200 et 300 mm ; de descendre à des traits de gravure entre 60 et 80 nm ; de proposer des substrats silicium, nitrure et silicium/nitrure à très faibles pertes ; de permettre l'ajout par procédé collectif de composants III-V, par exemple lasers et modulateurs.

  • La mise à disposition de ce PDK sur un outil MENTOR Graphics largement diffusé apporte un nouvel atout : une phase de conception outillée, rigoureuse et plus rapide. L'industriel peut puiser dans une librairie des composants déjà validés. Il peut en concevoir de nouveaux, spécifiques à son futur produit. 

Compatible avec un outil de routage automatique de lignes
  • De plus, le PDK est compatible avec un autre outil MENTOR Graphics, LightSuiteTM Photonic Compiler, dédié au routage automatique des lignes optiques et électroniques. Le flot de conception est donc parfaitement fluide. « Beaucoup de concepteurs font encore ce routage à la main, note Éléonore Hardy, du CEA-Leti. Or, les circuits photoniques comptent déjà des dizaines de composants et dépasseront bientôt la centaine ». 

  • Enfin, le CEA-Leti propose aux industriels de fabriquer leurs premiers produits en petite série dans le cadre de projets multi-wafers : ils ne paient que la surface  de silicium qu'ils utilisent. Les circuits réalisés sur la plateforme 310 nm visent de nombreuses applications : datacoms, télécoms, LiDAR, calcul haute performance, puces neuromorphiques, etc.

  • Pour MENTOR Graphics et le CEA-Leti, la mise à disposition de ce PDK s'inscrit dans leur collaboration pluriannuelle au sein de l'IRT Nanoélec.

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